Насос дозуючий ATHENA AT-AM3 (16 л/год при 2 бар)

Дозуючий насос ATHENA AT-AM3 — цифровий контроль pH та Rx з підвищеною продуктивністю

ATHENA AT-AM3 — професійний цифровий мембранний дозуючий насос з пропорційною продуктивністю 16 л/год для точного автоматичного введення хімічних реагентів у системи водопідготовки та басейнів середнього і великого об'єму. Вбудований контрольно-вимірювальний прилад pH/Rx забезпечує безперервний моніторинг хімічного балансу з можливістю автоматичного та ручного калібрування. Порівняно з молодшою моделлю AT-AM2, AT-AM3 забезпечує вдвічі вищу продуктивність при збереженні тих самих габаритів.

Функції керування

Насос підтримує пропорційний режим дозування та оснащений функцією «Таймер відкладеного запуску» — дозволяє встановити затримку початку дозування після запуску насоса для стабілізації хімічних показників води. Додатково передбачені: вихід на зовнішню сигналізацію несправностей, дистанційне керування старт/стоп, вхід для датчика температури та підтримка датчика рівня потоку.

Характеристики

Виробник — Injecta (Італія)
Артикул — ATAM3HNPVF000
Габарити — 173 × 89 × 117 мм
Витрата — 16 л/год при 2 бар
Робочий тиск макс. — 2 бар
Напруга — 100–240 В, 50/60 Гц
Потужність — 40 Вт
Імпульс/хв — 300
Об'єм імпульсу — 1.0 мл
Підключення — 4/6 мм
Вхід сигналу — 4–20 мА
Діапазон pH — 0–14
Діапазон Rx — -999 до +999 мВ
Захист — IP65
Температура середовища — до +40°С
Вологість — до 90%
Матеріали — PVDF / FPM / PTFE / Кераміка
Вага — 4 кг

Ключові переваги

Подвоєна продуктивність — 16 л/год проти 8 л/год у AT-AM2, оптимально для басейнів більшого об'єму.
Цифровий pH/Rx контроль — безперервний моніторинг двох ключових параметрів якості води в одному пристрої.
Таймер відкладеного запуску — точне дозування після стабілізації хімічних показників без надмірного введення реагентів.
Температурна компенсація — автоматичне/ручне коригування показників pH залежно від температури води.
Дистанційне керування — вихід старт/стоп для інтеграції в автоматизовані системи управління.
IP65 — повний захист від пилу та водяних струменів у вологих технічних приміщеннях.